高い断面アスペクト比のNbTiモノリス導体の開発
Development of high section aspect ratio NbTi monolith conductor.


軸園 昭宏,川越 明史,住吉 文夫(鹿児島大);三戸 利行(NIFS)
bt202094@ms.kagoshima-u.ac.jp
Abstract:  電力貯蔵装置用超伝導コイルの低損失化と高安定化の両立を目指して、高い断面アスペクト比をもつNbTiモノリス導体の開発を行った。この導体は、NbTi/Cu多芯丸線材を従来にないほど極めて高い断面アスペクト比まで圧延したものであり、低コスト化も期待できる。導体幅広面に対し平行な変動横磁界中では、高い断面アスペクト比のモノリス導体は、低損失で高安定となることが期待できる。本研究では、アスペクト比が7〜10程度の高い断面アスペクト比のモノリス導体を試作し、それらの臨界電流、磁化曲線、結合損失の測定を行った。その結果、幅広面に平行な横磁界中では、臨界電流特性が丸線に比べて20%近く向上した。また、結合損失時定数はCuのみの単一マトリクスであるにもかかわらず、数msec程度まで低減でき、ヒステリシス損失も小さくなった。現在、より大きな電流容量の導体および、臨界電流の向上を期待したCuNiマトリクスの導体を試作している。