ハフニウム系列パイロクロア物質を用いたIBAD二軸配向膜の作製
Bi-axially textured thin film deposition by IBAD with Hafnate-pyrochlores
宮田 成紀
，衣斐 顕，山田 穣，塩原 融（SRL）
miyata@istec.or.jp
Abstract: IBAD法による二軸配向基板の作製において、課題となっている成膜速度（製造速度）の改善を目指し、より短時間で高い配向特性を示す新しい物質の探索を行っている。実績の高いGd2Zr2O7を基点に検討を行った結果、同じパイロクロア構造を持ち、かつカチオンの置換に対して寛容であることを示す秩序ー無秩序転移を示すハフニウム系列のパイロクロア物質（Dy2Hf2O7およびEr2Hf2O7）を選抜、IBAD法を用いて二軸配向膜の作製を行った。成膜後、得られた膜をＸ線回折により評価したところ、二軸配向構造が確認され、また配向特性に関してもGd2Zr2O7と同等の特性を示すことがわかった。