フッ素フリーMOD法によるホルミウム系薄膜線材の開発
Development of HoBCO Coated Conductors by Fluorine-Free MOD Method
母倉 修司
，上山 宗譜，長谷川 勝哉，大松 一也，加藤 武志（住友電工）
hahakura-shuji@sei.co.jp
Abstract: 電力用途への適用を目指してホルミウム系薄膜線材を開発している。低コスト、量産プロセスが期待されるMOD法において、フッ素フリーの溶液を用いたプロセスによりフレキシブルで、長尺化が可能な配向金属テープ基板上の薄膜線材を開発した。当日は、中間層上にIc＝46A（膜厚0.3ミクロン、Jc＝1.5MA/cm2）が得られた結果を中心に報告する。本研究の一部は超電導応用基盤技術研究体の研究として、新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の委託を受けて実施したものである。