ＥＢ蒸着法による中間層形成プロセス開発
Devlopment of process for buffer layer by EB evaporation

森 匡見 , 渡部 智則 , 須田 昇 , 鹿島 直二 , 長屋 重夫 （中部電力）；和泉 輝郎 , 塩原 融 （SRL）
mori.masami2*chuden.co.jp

Abstract: Ｙ系超電導線材の中間層はＹＢＣＯ特性を大きく左右する。我々は中間層形成手段としてＥＢ蒸着装置を導入し、膜厚や表面状態がＹＢＣＯ特性に及ぼす影響を検討すると共に、Ｙ系線材作製プロセスの高速化についても可能性を検討した。ＥＢ中間層上にＭＯＣＶＤ法で形成したＹＢＣＯ薄膜のＩｃは１３５Ａが得られ、中間層形成手段としてＥＢ蒸着法は実用的薄膜形成プロセスであることを確認できた。