In - situ 法 MgB
2
/ CuNi 線材の組織と臨界電流密度 （ 2 ）
Microstructure and Critical Current Densities of In - situ MgB
2
/ CuNi Wire
谷口 優
, 中山 資啓 , 矢作 幸之 , 川上 隆輝 , 小林 久恭 , 八十濱 和彦 , 久保田 洋二 （日大）
suguru*t.email.ne.jp
Abstract:
CuNi シース MgB
2
単芯線材を作製した。線材断面の SEM や X 線回折測定から試料内部の観察を行い、直流四端子法により臨界電流密度の温度・磁場依存性を調べた。Mg リッチで作成した線材ではストイキオメトリで作成した線材よりも高磁場側で高い輸送臨界電流密度を得ることができた。