Si基板上MgB2薄膜の磁束ピンニング特性に対する酸素導入効果
Oxygen doping effect on flux pinning properties in MgB2 thin films deposited on Si substrates

春田 正和 , 藤吉 孝則 , 梶田 龍 , 末吉 哲郎 （熊本大）；土井 俊哉 （鹿児島大）；北口 仁 （NIMS）；淡路 智 , 渡辺 和雄 （東北大）；宮川 隆二 （熊本県工技センター）
haruta*st.eecs.kumamoto-u.ac.jp

Abstract: 電子ビーム蒸着法を用いてSi基板上にMgB2薄膜を作製した。成膜中に酸素を導入することによりJcが向上し、高磁場中においても高いJcを有していた。また、Jcの磁場角度依存性、電流‐電圧特性の測定を行い、酸素導入により磁束ピンニング特性に与える影響について調査した。