YBCO マイクロストリップライン共振器を用いた表面抵抗の印加磁場角度依存性
Dependence of surface resistance on an angle of dc magnetic field using YBCO microstrip line resonator
山形大学
Faculty of Engineering， Yamagata University
齊藤敦， 北村一大， 野口洋祐， 相澤慶二， 平野悟， 大嶋重利
atsu*yz.yamagata-u.ac.jp
Abstract :
YBCO高温超伝導薄膜における表面抵抗（Rs）の印加磁場強度，及び角度依存性を測定した．MgO（100）基板両面にYBCO 薄膜をスパッタリング成膜後，誘電体共振器法により無磁場中でのRs測定を行った．その後片面をギャップ給電形マイクロストリップライン（MSL）に加工した．MSL共振器法により，Rs-T 特性の印加磁場強度依存性（B<5 T）を測定した．印加磁場角度はYBCO 薄膜のab面に対して0， 45， 90°で行った．磁場中でのRsの増加率（Rs（5T）/Rs（0T））は90°印加の場合が0°に比べて大きく，これはHTS薄膜の層状構造に起因しているものと考えられる．また，45°で磁場を印加した場合のRsの増加率は90°に印加した場合に対して約10% 程度の増加を示した．この結果は，YBCO 薄膜が強磁場応用上有用であることを示唆している．詳細は講演の際述べる．
Keyword(s) :
YBCO薄膜,マイクロストリップライン共振器法,表面抵抗,磁場強度依存性,磁場印加角度依存性,