スパッタによるAl薄膜堆積での電子ビーム照射効果
Electron Beam Radiation Effect in Al Thin Film Deposition by Magnetron Sputtering
山口大学工学部
Faculty of Engineering， Yamaguchi University
諸橋信一，松本大樹，賀本修一，松本哲之，石橋恵
smoro*yamaguchi-u.ac.jp
Abstract :
Nb/Al-AlOx-Al/Nb構造を用いた高品質な電磁波検出器用超伝導ジョセフソン接合を作製するため、電子ビーム励起プラズマ支援マグネトロンスパッタによるAl薄膜堆積について検討した。電子ビーム励起プラズマは、所定のガスが最も電離しやすいエネルギー分布の電子ビームを照射することにより、効率よく所定のガスのプラズマを形成することができる。また、電子ビームを照射することにより、プラズマ酸化やプラズマ窒化といった手法で厚さ1nmの極薄膜であるトンネルバリア層の作製が可能となる。Nb/Al-AlOx-Al/Nb構造を用いた接合では、オーバーレイアAl層は超伝導性を弱める近接層として作用し、接合の電流―電圧特性に影響を及ぼす。高品質な特性を得るためには、この近接効果の影響が少ないAl薄膜堆積条件を検討する必要がある。
Keyword(s) :
超伝導トンネル接合,電子ビーム励起プラズマ,対向ターゲット式スパッタ,,,