PtドープGdBa2Cu3Ox薄膜の作製と評価
Preparation and characterization of Pt-doped GdBa2Cu3Ox Thin Films
A八戸高専，B名古屋大工，C京都大工，D電力中央研究所，E東京大工，F静岡大工，G山形大工，HCREST-JST
Hachinohe National College of Technology
中村嘉孝A，H，一野祐亮B，H，吉田隆B，H，松本要C，H，一瀬中D，H，堀井滋E，H，喜多隆介 F，H，向田昌志G，H，大嶋重利G
naka-e*hachinohe-ct.ac.jp
Abstract :
オフアクシスRFスパッタ法によりPtを人工ピンニングセンターとしたGdBa2Cu3Ox（GdBCO）薄膜を作製した。Ptプレートをターゲット表面上にサイズ、個数、場所を変えて配置する事で、GdBCO薄膜中のPt濃度を制御した。その結果、Pt濃度が高い場合はc軸配向GdBCO薄膜中に多くのa軸配向グレインが成長したが、Pt濃度の最適化によりc軸配向したGdBCO薄膜を作成することが出来た。Ptを添加する前後でGdBCO薄膜のδωは0.35°と変化せず、結晶性を維持した薄膜を作成することが出来た。
Keyword(s) :
人工ピンニングセンタ,,,,,