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人工ピンを導入したREBCO薄膜の磁束ピンニング特性
Flux pinning properties of REBCO thin films with atificial pinning centers

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^A熊大工， ^B熊本県工技センター， ^C九大工， ^D京大工， ^E名大工， ^FCREST-JST
Faculty of Engineering， Kumamoto University
藤吉孝則^A， 末吉哲郎^A， 春田正和^A， 城台憲人^A， 上野剛^A， 宮川隆二^B， 向田昌志^C，F， 松本要^D，F， 吉田隆^E，F， 三浦正志^E，F
fuji*eecs.kumamoto-u.ac.jp

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Abstract : 　REBCO薄膜の磁場中における臨界電流密度向上のために，ナノ組織制御によって薄膜中に，人工的にデザインされた人工ピンの導入を行うことが盛んに行われている．本研究では，人工ピンを導入したREBCO薄膜の臨界電流密度の印加磁場角度依存性や電流ー電圧特性から得られたピンニングパラメータの磁場依存性を調べることにより，人工ピンの磁束ピンニング特性について議論する．

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Keyword(s) : 臨界電流密度,人工ピン,REBCO,ピンニングパラメータ,,

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