逆空間マッピングを用いた低温成膜法SmBa2Cu3Oy薄膜の膜厚に対する結晶構造の評価
Evaluation using X-ray reciprocal space mapping of crystal structure in SmBa2Cu3Oy thin film grown by low temperature growth technique
A名大工，B京大工，C山形大，D電中研，E東大工，FCREST-JST
Dept. of Energy Engineering and Science， Nagoya University
一野 祐亮A，F，三浦 正志A，F，尾崎壽紀A，吉田 隆A，F，高井 吉明A，松本 要B，F，向田 昌志C，F，一瀬 中D，F，堀井 滋E，F
ichino*nuee.nagoya-u.ac.jp
Abstract :
これまで、低温成膜法で作製したSmBa2Cu3Oy薄膜（LTG-Sm123）がNb-Tiに匹敵する高い磁場中Jcを示す事を報告してきた。磁場中Jcの向上には、Sm/Ba置換領域の微細分散とともに、結晶性の向上による超伝導特性の本質的向上が大きく寄与している。本講演では、膜厚に対するSmBa2Cu3Oy薄膜の結晶構造の変化をX線回折法による逆空間マッピング（RSM）を用いて評価した。その結果、PLD法で作製した薄膜（PLD-Sm123）は、膜厚200 nm以上で斜方晶転移が明確に確認されたが、LTG-Sm123には明確な斜方晶転移が確認されなかった。LTG-Sm123では、双晶境界が微細に生じて斜方晶転移しているため、RSMで明確な転移が現れないと予想される。
Keyword(s) :
SmBa2Cu3Oy,薄膜,低温成膜法,逆空間マッピング,,