高温超伝導バルクを用いた非接触スピン処理装置の研究開発（2）
−研究の現状と今後の研究計画−
Development of Magnetic Levitation Spin Coater Using HTS Bulk （2）
-Present Status-
山士家 奨
，笠井雅俊，佐藤隆一，高田護，小川純，福井聡，山口貢，佐藤孝雄（新潟大）；笹原友栄（MTC）；西脇俊朗，結城洋司（新潟TLO）
fukui*eng.niigata-u.ac.jp
Abstract: 半導体フォトマスクの微細加工プロセスにおけるスピン処理では，スピン装置の軸受部分からの放出される異物微粒子がパターン内部に入ることによるマスクの低品質化や生産歩留まりの低下を招く要因をとして，問題解決が望まれている。本グループでは，上記問題点を解決する方法として，高温超伝導バルク／永久磁石を用いた磁気浮上をスピン処理装置に適用した非接触スピン処理装置の研究開発を行っている。本研究の現状及び今後の研究計画について発表する。