電子ビーム蒸着法で作製したMgB
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薄膜
MgB
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thin films prepared by an EB evaporation technique.
濱田 秀造
，土井俊哉，白樂善則（鹿児島大）；北口仁（NIMS）
bt200101*ms.kagoshima-u.ac.jp
Abstract: これまでMgB
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薄膜は、主にサファイア基板上で作製されてきたが、今回、我々は銅基板上への薄膜作製を試みた。作製には電子ビーム蒸着法を用い、基板温度200〜300℃、背圧10E-7Paで作製した。基板温度265℃で作製したMgB
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薄膜において、Tc＝21Kの超伝導転移が観測された。