スパッタ法によるMg-B超伝導薄膜の作製
Preparation of superconducting Mg-B film by sputtering.
鈴木 光政
，塚本陽介，喬良，柏倉隆之（宇都宮大）
mt043619*cc.utsunomiya-u.ac.jp
Abstract: 本研究では、液体窒素によるゲッター作用効果を着目し、Arガス中でのRFマグネトロンスパッタリング法により、as-grownMg-B薄膜の作製を検討した。Mgの円板（50φ，5t）上にBチップ（10×10×1t）を配置して、シングルターゲットを構成した。基板としてパイレックスガラスおよび、Si（111）ウェーハを使用した。30分間のスパッタリングで3000〜5000Åの厚さの薄膜を得た。基板温度200〜230℃で作製した薄膜では、5〜10Kで抵抗変化が認められた。作製した薄膜をXPS（X線光電子分光法）測定により、膜中のMgやBの組成及び酸化状況を検討した。