3A-a04

同一基板上における2次元人工ピンニングセンタ用バッファ層の検討
Investigation of buffer layers for 2D artificial pinning centers on one substrate

山形大工^A,電力中央研究所^B,京都大工^C,名古屋大工^D,東京大工^E,CREST JST^F
°野村佳代^A,F,向田昌志^A,F,一瀬中^B,F,松本要^C,F,吉田隆^D,F,堀井滋^E,F,廣瀬文彦^A,齊藤敦^A,大嶋重利^A
E-mail : kayo1180*hotmail.com
Keyword(s) : バッファ層,2次元人工ピンニングセンタ,面内選択成長,,,

我々は、同一基板上の所望の位置にバッファ層を用いてc-軸配向膜の0-45^o面内選択成長を試みている。今回は、バッファ層上にリソグラフィ技術を用いて2μmのline and spaceを作製し、YBa₂Cu₃O_7-δをライン状に作製することで界面を人工ピンニングセンタとして動作させるためにプロセス耐性のあるバッファ層の検討を行ったので報告する。