微細加工により導入した溝状人工ピンニングセンターの磁化緩和特性
Magnetic relaxation propertiies of artifitial pinning centers introduced by microfabrication
A山口大学,B東北大学
°原田直幸A,後藤祐司A,安田俊朗A,津田理A,浜島高太郎B
E-mail : naoyuki*yamaguchi-u.ac.jp
Keyword(s) : 人工ピン,臨界電流,微細加工,磁化特性,磁束クリープ,Nb膜
塑性加工を用いずに人工ピンニングセンターを導入する方法を検討している。電子ビーム蒸着法で作製した厚さ0.5μmのNb膜に加工周期4μmの溝状のパターンを微細加工により導入した。これまで加工パターンや加工周期依存性などの報告を行った。今回は加工深さを変化させた試料を作製し、磁化緩和特性と加工深さとの関係について報告する。