スパッタリング法およびEB蒸着法によるMgB2薄膜の作製

MgB2 films prepared by Sputtering and EB methods

@石崎 雄一郎A,土井 俊哉A,白樂 善則A,毛利 存B,北口 仁C,岡田 道哉D,田中 和英D

鹿児島大学A,八代工業高等専門学校B,物材研C,日立・日立研D

本研究では、スパッタリング法を対象に成膜条件、成膜後のin-situアニールの条件を検討し、高いTc，Jcを有する超伝導MgB2薄膜化の基板技術の確立を行っている。また電子ビーム蒸着法を用いたAs-grownによる低温成膜も行っている。