空洞共振器法による超伝導薄膜用誘電体基板の比誘電率の非破壊測定

Nondestructive Measurement of Permittivity of Dielectric Substrate for Superconductive Thin Films by a Cavity Resonance Method

山形大学工学部
@渡部 忍, 楠 正暢, 向田 昌司, 大嶋 重利

　 本研究では、マイクロ波帯における円筒空洞共振器のTE₀₁₁モードを用いて、超伝導薄膜に使用される誘電体基板の比誘電率の測定を行った。この方法は、円筒空洞共振器を中央で分割し、その間に誘電体基板を挟んで構成されるため、誘電体基板をそのままの形状で測定することができる非破壊測定法である。また、測定に用いたTE₀₁₁モードは測定誤差1％以内で測定を行うことができる。これは、マイクロ波デバイスへの応用には十分な精度である。