Pinning property of groove-shaped artificial pinning centers by micro-fabrication
山口大学工学部
@山田 博, 原田 直幸, 須貝 圭吾, 津田 理, 浜島 高太郎
次世代の高温超伝導線材の高電流密度化には、効果的な磁束ピンニングセンターが不可欠である。人工的に導入する磁束ピンニングセンターの効果について、超伝導Nb薄膜を用いて、ピンニング効果を理論的に解析し実験値と特性の比較、検討を行った。人工ピンニングセンターとして周期的な配置をもつ溝状、穴状のパターンを、リソグラフィーにより加工した。溝状の人工ピンニングセンターの導入により臨界電流密度は増加を示し、理論的な巨視的ピン力密度に対応して、溝の周期に反比例し深さに比例することを確認した。