MgB2 thin films fabricated by rf sputtering
八代高専,鹿児島大工A
@毛利 存,永徳 公司A,土井 俊哉A,白楽 善則A
MgB2超伝導薄膜を単一ターゲットによるrfスパッタリングで成膜した。ターゲットには(I)MgB2焼結体と(II)純Mg板上にB金属を配置したものを用いた。成膜やアニールの条件を検討し、ゼロ抵抗温度25Kの薄膜が得られた。また、条件によっては薄膜中にはMgOの生成が見られたが、このような酸化物が生じる要因について考察した。