Measurements of the Upper-Critical Field of NbTi Thin Films Using a SQUID-Based Voltmeter System
神船大
@丸山 卓也,赤澤 輝彦,武田 実
本研究室では以前より、NbTiを主体とした積層膜の磁気シールド特性の研究を行っている。それらの研究の中で、積層膜や単層膜の臨界温度Tcや臨界電流密度Jcの膜厚依存性や磁場方向依存性が明らかにされた。 今回の実験では膜厚の異なるNbTi薄膜を対象として、上部臨界磁場をSQUIDを用いて詳しく測定した。その結果を報告する。