Fabrication of the HTS multilayer structure using CMP
産総研
@高島浩、葛西直子
酸化物超伝導体を用いたSQUID作成に向け、YBCOとSTOを用い積層構造の作成を行っている。YBCO薄膜は表面に突起物があり、これが積層構造を作成した際には上下超伝導膜のマイクロショートの原因となる。また、下部YBCO膜に作成したストリップラインを上部がクロスオーバーした際には、上部YBCO膜の超伝導特性が大きく劣化する。そこでCMP研磨を行うことによって積層構造の絶縁抵抗の向上と、超伝導膜の特性改善に成功し、YBCO/STO/YBCO/STO/YBCOの5層構造の特性について報告する。