リソグラフィーによりNb膜に導入した周期的な磁束ピンニングセンターの効果||

Effect of periodic flux pinning centers in Nb films by the photo-lithography ||

山口大学工学部

@山田　博,岩本　忠司,須貝　圭吾,原田　直幸,津田　理,浜島　高太郎

　 ピンニングセンターを人工的に導入する手法の一つとして、著者らはリソグラフィーによる手法を提案している。これを用いてNb膜に人工ピンとして周期的な溝パターンおよび正方格子状の穴パターンを加工した。パラメターとして溝および穴の加工深さを変化させた。臨界温度8.2Kに近い温度範囲で磁化測定を行った結果、パターンを加工した試料でピンニング効果により磁化の増加がみられた。また、パターンの加工深さがおよそ50%までは磁化は増加を示したが、さらに深く加工すると磁化は減少した。