Low-temperature liquid-phase epitaxial growth of YBa2Cu3O7-d on NiO-buffered textured Ni tapes
超電導工学研究所,古河電工A
@前田敏彦,黒崎晴彦,須賀俊裕,金錫範,山田容士,渡部智則A,平林泉
50℃程度以下まで成長温度を低下させることで、表面酸化エピタキシー(SOE)法により作製した NiO/Ni 基板上への YBCO 膜の液相エピタキシャル成長における NiO とフラックスとの反応の抑制が可能となった。