フォトリソグラフィーによりNb膜に導入した周期的な磁束ピンニングセンターの効果　III

Effect of periodic flux pinning centers in Nb films by the photo-lithography　III

山口大学工学部

@岩本忠司,山田博,須貝圭吾,原田直幸,津田理,浜島高太郎

　 リソグラフィー技術を用いて、Nb膜に溝状の人工ピンニングセンターを導入した。本報告では、加工周期を変化させて、その効果を検討した。加工周期を２μmにした場合、４μmの場合に比べて、磁化曲線の幅は約２倍となり、導入したピンニングセンターが有効に作用していることがわかった。