TFA-MOD法YBCOにおける反応、微細組織

Reaction and microstructure of YBCOby metalorganic deposition using trifluoroacetate

超電工学研究所、ファインセラミックスセンター^A

@山田 穣, 荒木 猛司, 黒崎 晴彦, 湯浅 豊隆, 塩原 融, 平林 泉, 加藤丈晴^A, 平山司^A

　 TFA法によるYBCO膜の抵抗測定、XRDにより、その反応過程と微細組織の関係を論じた。膜厚が厚くなるとJcが減少するがこれはポーラスな組織になるためである。これはHFのガスが抜ける本方法特有の反応に起因していると思われる。また、HF濃度コントロールにより組織を制御できる可能性を論じた。