Effect of Periodic Flux Pinning Centers on Nb Films by the Photo-Lithographic Techniques
山口大学工学部
@山田 博,岩本 忠司,津田 理,原田 直幸,浜島 高太郎
Ar雰囲気中にて1400℃で熱処理を行い結晶粒界の密度を減少させたNb膜に、フォトリソグラフィーにより間隔4μmの溝状およびホール状の周期的な磁束ピンニングセンターを導入した。4.2〜9.0Kの温度範囲において磁化測定を行ったところ、ピンニングセンターを導入したNb膜の磁化に増加がみられた。