NbTi-Cu積層膜のピン力密度に対するスケーリング則

Scaling law on pinning force density of NbTi-Cu multilayer films

神船大
@武田　実, 西垣　和

　 NbTi-Cu積層膜は、超伝導磁気シールド材のひとつとして有望視されている。実用化のためには、ピン力密度の磁場強度および磁場方向依存性を詳しく調べておくことが重要である。我々はこれまでに膜厚や層数をパラメータとしてJcのユニークな磁場方向依存性について報告した。今回は平行磁場と垂直磁場下でNbTi層の膜厚をパラメータとしてJcの磁場強度依存性を調べ、ピン力密度に対するスケーリング解析を行った。その結果、膜厚をパラメータとして平行磁場と垂直磁場下では異なるスケーリング則が成り立つことがわかった。この結果とNbTi薄膜で得られた結果とを比較して、その違いについて考察する。