MOD法によるIBAD基板上へのYBCO膜の作製

Preparation of YBCO films on IBAD substrate using Metalorganic deposition

超電導工学研究所^A,(株)フジクラ^B
@本庄哲吏^A,富士広^A,中村雄一^A,和泉輝郎^A,荒木猛^A,平林泉^A,塩原融^A,飯島康裕^B,武田薫^B

RE系超電導テープ線材の作製における成膜方法としてMOD(Metal Organic Deposition)法は非真空プロセスで高いJcが望めることから注目されている。しかしながら、同法を用いる場合、金属基板上とY-Ba-Cu前駆体との反応を抑制するためにCeO₂等の中間層が必要であり、更に2軸配向を得るために最上層の中間層迄に面内配向を得る必要がある。IBAD(Ion Beam Assisted Deposition)法は、無配向テープ上においても良好な面内配向性を有した平滑なYSZ中間層(IBAD-YSZテープ)が得られる成膜法である。本報ではNi系金属テープ上にIBAD法で成膜したYSZテープを用い、TFAを原料としたMOD法によりYBCO膜の作製について検討を行った。その結果、IBAD-YSZテープとYBCO膜のバッファ層にスッパリング法で成膜したCeO₂層を用い、熱処理条件を適正化する事により直流四端子法においてJc>1MA/cm²(77K,0T)を達成した。 本研究は、（財）国際超電導産業技術研究センター（ISTEC）を通じて、新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）から委託された。