（株）東芝 電力・産業システム技術開発センター,電子技術総合研究所A,金属材料技術研究所B
@岡田秀彦,福島公親,小原健司A,B,和田仁B
高勾配磁気分離プロセスを効率良く且つ精度良く短時間の計算で模擬できるシミュレーションプログラムを開発した。本シミュレーションプログラムの特徴は、既存の粒子軌跡モデルでは取り入れる事ができなかった粒子拡散の影響を取り入れているにもかかわらず、フィルター内での粒子濃度分布等を粒子軌跡モデルと比べ非常に短時間で計算可能なことである。そのため、磁気フィルター等の最適化に非常に有効である。本報告では、複数のフィラメントが存在する系でのシミュレーション結果等から粒子軌跡モデルとの比較検討を行い、その優位性を示す。