Ba-Nb-O添加RE123薄膜における成膜温度に依存したナノロッド形態の変化と局所的臨界電流密度分布の関係

Relationship between distribution of local Jc and growth-temperature-dependent nanorod morphology in Ba-Nb-O doped RE123 films


春田 正和, 佐浦 啓介, 藤田 夏斗, 小椋 裕太 (高知工科大); 一瀬 中 (電中研); 前田 敏彦, 堀井 滋 (高知工科大)


Abstract:RE123薄膜の磁場中Jc向上にはナノロッドの導入が有効であるが、我々はナノロッドを導入したRE123薄膜の臨界電流特性は成膜温度に強く依存して変化することを報告してきた。本研究では、Ba-Nb-Oナノロッドを導入したRE123薄膜において、ナノロッド導入による空間的なJc分布の変化に着目した。電流-電圧特性から局所的なJcの分布を導出し、成膜温度に依存したナノロッド形態の変化と磁束ピンニング特性の変化を明らかにする。