固相エピタキシャル成長法によるYbBa2Cu4O8薄膜の作製

Fabrication of YbBa2Cu4O8 thin films by solid phase epitaxial growth


多田 善紀, 高平 俊輔, 一野 祐亮, 吉田 隆 (名大)


Abstract: 高い臨界温度や高い磁場中特性の観点からRE-Ba-Cu-O系超伝導体の研究が盛んに行われているが、本研究ではその中でも高温下においても酸素欠損を起こさず、結晶構造が熱的安定性に優れているREBa2Cu4O8(RE124)型構造のc軸配向膜の作製に取り組んだ。その結果、固相エピタキシャル成長させることにより単結晶基板上へのYbBa2Cu4O8(Yb124)のc軸配向膜の作製に成功した。
 さらに、線材応用のためのハステロイテープ上へのRE124のc軸配向膜の作製を目的とし、Ion Beam Assisted Deposition(IBAD)法を用いた配向YSZ中間層、Pulsed Laser Deposition (PLD)法を用いた配向CeO2中間層の作製を行っている。現在、面内配向したYSZ中間層の作製条件などを把握しており、その上へのPLD法によるCeO2中間層や固相エピタキシャル成長法を用いたYb124層の作製を検討している。