FF-MOD法RE123薄膜へのピンニングセンターの導入

Introduction of effective pinning centers to RE123 thin films by FF-MOD method


石渡 悠人, 下山 淳一, 元木 貴則, 岸尾 光二 (東大); 永石 竜起 (住友電工)


Abstract:RE123薄膜の作製法のうち原料にフッ素を用いないFF-MOD法は、簡便で低コストな作製法であり工業化に適している。しかし、PLD法やMOCVD法、TFA-MOD法など、他の手法に比べて高Jcを示す薄膜が得られていない。そこで我々はこれまでに得た焼成条件に関する知見を踏まえ、希土類混合及びHf添加により有効なピンニングセンターの導入を試みた。いずれにおいても、他の希土類元素やHfを含まないY123層を種層として1層目に導入することが、c軸配向膜の作製に有効であることが明らかになった。またHf添加によりBaHfO3が析出し、Jcが向上した。